簡要描述：氣氛實驗爐可應用于實驗室、工礦企業(yè)、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根據(jù)不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

廠商性質：生產(chǎn)廠家
更新時間：2024-12-25
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產(chǎn)品介紹

品牌	中奧菲達	升溫速度（達到最高溫）	60/min
內部尺寸	200-200-200mm	加熱方式	硅碳棒
最大功率	6000kW	控溫精度	1℃
最高溫度	1400℃	價格區(qū)間	1萬-2萬
儀器種類	真空爐	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),綜合

氣氛實驗爐是一種能夠轉換、調節(jié)爐膛內氣氛,以使材料在特定氣氛下燒結的加熱設備。一般爐內氣體為惰情氣體（氮氣N2、氬氣Ar2）或還原性氣體（氫氣H2、一氧化碳CO）也有氮氫混合氣，通入氣體主要為了起到防止氧化或起到還原作用，有的特殊的材料通入氣體，則是作為一種催化輔料的作用。保護氣氛管式電爐適用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校實驗室等。在各種氣氛下作化學分析、物理測定、已廣泛應用于粉末冶金、陶瓷金屬化、熒光粉、電池材料、電子陶瓷、化工原料、納米材料等產(chǎn)品的研究及小批量生產(chǎn)。

AFD1400℃系列氣氛實驗爐
產(chǎn)品用途	適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結。
設備型號	工作尺寸	爐膛容積	極限溫度	工作溫度	功率電壓
AFD1200-20	200x150x150	4.5L	1400℃	≤1300℃	220V 5KW
AFD1200-30	300x200x200	12L	1400℃	≤1300℃	220V 7KW
AFD1200-40	400x300x300	36L	1400℃	≤1300℃	380V 12KW
AFD1200-50	500x400x400	80L	1400℃	≤1300℃	380V 18KW
AFD1200-60	600x500x500	150L	1400℃	≤1300℃	380V 36KW
正負壓力	抽真空至 20kPa；工作壓力低于0. 1MPa（使用工作壓力≤0.04MPa）
溫場效果	溫度波動度：±1.0℃，溫場均勻性±3.0℃
可充氣體	氮氣，氧氣和氬氣及其它惰性氣體，爐體后面有進氣口，爐體頂部或前面有放氣口及抽真空口
開門方式	正面開門，從右向左，爐門通過4個夾鉗鎖緊
殼體結構	雙層爐殼，爐體表面溫度低，四周表面溫度：≤ 35℃，內箱采用3mm spcc無縫焊接
冷卻水系統(tǒng)	正面爐門安裝冷卻水系統(tǒng)，防止密封圈溫度過高老化
安全保護系統(tǒng)	具備完善的保護功能，有超溫、短偶、過流、短路、傳動動作連鎖等功能，操作安全可靠；
操作系統(tǒng)	LED數(shù)顯儀表，數(shù)字顯示電流表、電壓表，指針壓力表
溫控系統(tǒng)	溫度控制方式為P.I.D+S.C.R可控硅,移相觸發(fā)，可以調控制時間、升溫速率、控制功率，PV值與SV同步顯示，沖溫不超過5℃
溫控曲線	50段可編程控制，可設置50段升降溫程序
測溫元件	S型熱電偶
加熱元件	硅碳棒，加熱元件放在爐膛兩側采用氣體對流和熱輻射加熱，升溫速率：≤ 20 ℃/ Min，升溫速率建議:5-8℃/Min
爐膛材料	1600型高純氧化鋁微晶體纖維，保溫性能好
售后服務	12個月質保（相關易耗件除外），終身保修
包裝方式	三合板木質包裝箱或硬質泡沫包裝
設備隨機配件	高溫手套1付；坩堝鉗1把；爐底板1塊；產(chǎn)品說明書1份；保修1份。
選配配件	1．自動抽真空、超壓自動放氣功能 2．觸摸屏無紙記錄儀操作系統(tǒng) 3．冷卻水循環(huán)設備 4．聲光報警系統(tǒng) 5．真空泵 6．流量計 7．坩堝